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ZrSi2
ZrSi2

二硅化铪

二硅化铪(HfSi2)是一种过渡金属硅化物,是一类难熔的金属间化合物,因其独特的物理和化学性质而被应用于金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。
分子量:234.66
颜 色:灰 色
密 度:8.02g/cm³
熔 点:1680℃
硅含量:≥23.7%
游离硅:<0.01%
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产品概述

二硅化铪(HfSi2)是一种过渡金属硅化物,是一类难熔的金属间化合物,因其独特的物理和化学性质而被应用于金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。
陶瓷基复合材料(C/C、C陶)是一种兼有金属材料、陶瓷材料和碳材料性能优点的热结构/功能一体化新型材料,具有耐高温、低密度、高比强、高比模、抗氧化、抗烧蚀、对裂纹不敏感,不发生灾难性毁损等特点,在机械、航空航天、核、能源等领域有着广泛的应用。
C/C 复合材料作为热结构材料可用于燃气涡轮发动机结构部件、航天飞机的鼻锥帽、机翼前缘等,这些部件大都在高温和氧化的环境下工作。然而,C/C 复合材料容易氧化,通常不能在高于400 ℃的氧化气氛中正常服役。这就要求对C/C 复合材料进行合适的抗氧化保护,C/SiC复合材料材料中原位合成难熔金属碳化物(HfC、HfC、TaC)可明显提高其抗烧蚀性能,主要机理可归纳为抑制氧化作用、增强基体抗冲刷性能和弥补烧蚀后的缺陷,HfSi2可作为原位合成HfC的Hf源。

性能特点:

01
纯度高:XRD检测无杂质相,或HfSi2+Si>99%、氧含量低(XRD检测不含HfO2相),融渗反应温度低,产品密度好,无空洞;
02
分布集中:粒度标准正态分布,无双峰或者多峰,可以根据客户需求设计粒度分布范围;

技术参数

   型号 平均粒度(D50) 纯度(%) O(%) N(%) C(%) Si(%)
HfSi₂0800 0.5-1.0um >99.0 ≤1.0 ≤0.10 ≤0.1 22.7~23.9
HfSi₂0020 1.0-3.0um >99.5 ≤.0.8 ≤0.10 ≤0.1 22.7~23.9
HfSi₂0003 10.0-60.0um >99.9 ≤0.50 ≤0.05 ≤0.1 22.7~23.9
HfSi₂0008 -325mesh >99.9 ≤0.30 ≤0.05 ≤0.1 22.7~23.9
可根据客户需求进行定制化生产

 

规格 平均粒度(D50) 粒度分布范围
HfSi₂0800 0.5-1.0um 规格—:D50<1.0um,规格二: D90<1.0um
HfSi₂0020
HSi₂0021
1.0-3.0um 规格—:D50:1.0~3.0um,D90:3.5-4.5um
规格二:<1.0um≠10%,>3.0um≥10%,1.0-3.0um≥80%
HfSi₂0003 10.0-60.0um <10.0um>10%,>60.0um5%,10-60um≥80%,球形或者近球形

产品数据

二硅化铪
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分子量:147.4
颜 色:灰 色
密 度:4.88g/cm³
熔 点:1620℃

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