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氮化钽

氮化钽(TaN)具有优越的物理、化学及机械性能(如高硬度、耐磨、化学惰性、热稳定性以及低的电阻温度系数),广泛应用于耐磨涂层、薄膜电阻以及集成电路中的扩散势垒等领域。
分子量:194.9
颜 色:灰色
含氮量:≥6.8%
密 度:13.4g/cm3
熔 点:3090℃
显微硬度:3200kg/mm²
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产品概述

氮化钽(TaN)具有优越的物理、化学及机械性能(如高硬度、耐磨、化学惰性、热稳定性以及低的电阻温度系数),广泛应用于耐磨涂层、薄膜电阻以及集成电路中的扩散势垒等领域。

性能特点:

01
纯度高,XRD检测无杂质相。

技术参数

型号 平均粒度(D50) 纯度(%) O(%) H(%) C(%) N(%)
TaN0800 0.5-1.0um >99.0 ≤1.0 ≤0.001 ≤0.01 6.5~7.2
TaN0020 1.0-3.0um >99.5 ≤.0.8 ≤0.001 ≤0.01 6.5~7.2
TaN0001 -325mesh >99.9 ≤0.1 ≤0.001 ≤0.001 6.5~7.2
可根据客户需求进行定制化生产

 

元素 最大值 典型值 元素 最大值 典型值 元素 最大值 典型值
Al 0.0010 0.0005 Fe 0.0500 0.0300 P 0.0010 0.0005
As 0.0010 0.0005 K 0.0020 0.0010 Pb 0.0003 0.0001
Bi 0.0003 0.0001 Mg 0.0020 0.0010 S 0.0010 0.0005
Ca 0.0015 0.0006 Mn 0.0010 0.0005 Sb 0.0020 0.0010
Cd 0.0005 0.0001 Mo 0.0030 0.0015 Si 0.0050 0.0030
Co 0.0005 0.0001 Na 0.0020 0.0005 Sn 0.0003 0.0001
Cr 0.0050 0.0020 Ni 0.0050 0.0030 Ti 0.0050 0.0020
Cu 0.0003 0.0001 Nb 0.0030 0.0010 V 0.0050 0.0010

产品数据

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