氮化钽(TaN)具有优越的物理、化学及机械性能(如高硬度、耐磨、化学惰性、热稳定性以及低的电阻温度系数),广泛应用于耐磨涂层、薄膜电阻以及集成电路中的扩散势垒等领域。
| 型号 | 平均粒度(D50) | 纯度(%) | O(%) | H(%) | C(%) | N(%) | ||||
| TaN0800 | 0.5-1.0um | >99.0 | ≤1.0 | ≤0.001 | ≤0.01 | 6.5~7.2 | ||||
| TaN0020 | 1.0-3.0um | >99.5 | ≤.0.8 | ≤0.001 | ≤0.01 | 6.5~7.2 | ||||
| TaN0001 | -325mesh | >99.9 | ≤0.1 | ≤0.001 | ≤0.001 | 6.5~7.2 | ||||
| 可根据客户需求进行定制化生产 | ||||||||||
| 元素 | 最大值 | 典型值 | 元素 | 最大值 | 典型值 | 元素 | 最大值 | 典型值 | ||
| Al | 0.0010 | 0.0005 | Fe | 0.0500 | 0.0300 | P | 0.0010 | 0.0005 | ||
| As | 0.0010 | 0.0005 | K | 0.0020 | 0.0010 | Pb | 0.0003 | 0.0001 | ||
| Bi | 0.0003 | 0.0001 | Mg | 0.0020 | 0.0010 | S | 0.0010 | 0.0005 | ||
| Ca | 0.0015 | 0.0006 | Mn | 0.0010 | 0.0005 | Sb | 0.0020 | 0.0010 | ||
| Cd | 0.0005 | 0.0001 | Mo | 0.0030 | 0.0015 | Si | 0.0050 | 0.0030 | ||
| Co | 0.0005 | 0.0001 | Na | 0.0020 | 0.0005 | Sn | 0.0003 | 0.0001 | ||
| Cr | 0.0050 | 0.0020 | Ni | 0.0050 | 0.0030 | Ti | 0.0050 | 0.0020 | ||
| Cu | 0.0003 | 0.0001 | Nb | 0.0030 | 0.0010 | V | 0.0050 | 0.0010 | ||